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伊诺知识产权:谨记专利申请的四大雷区,不要踩!

[导读]:  伊诺知识产权:谨记专利申请的四大雷区,不要踩!历年来,专利申请都是我们主要的知识产权主力,随着我国对知识产权保护的重视度,也越来越多的人会选择申请专利,利申请是技术成果保护的重要手段,也是获得专利···

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伊诺知识产权:谨记专利申请的四大雷区,不要踩!

来源:伊诺知识产权 作者:小诺 时间:2021-12-29 16:19:51 阅读:202

  伊诺知识产权:谨记专利申请的四大雷区,不要踩!历年来,专利申请都是我们主要的知识产权主力,随着我国对知识产权保护的重视度,也越来越多的人会选择申请专利,利申请是技术成果保护的重要手段,也是获得专利权的必然程序。专利申请从提出到申请完成要经过许多程序,过程复杂且繁琐,因此在申请专利时难免会进入误区。今天伊诺知识产权带大家了解一下谨记专利申请的四大雷区。

伊诺知识产权:谨记专利申请的四大雷区

  雷区一、缺乏长远的专利战略规划

  有些企业毫无目的的申请大量专利,结果导致授权率低,并产生大量的垃圾专利,浪费时间和精力。对于技术性创业公司来说,必须明确公司战略,专利是为了战略服务的,应该对自己行业内的基本专利状况,以及外围专利状况有十分明确的认识,只有这样才能找到技术突破口,排除他人专利障碍,确立自己的专利优势,从而赢得市场竞争。

  雷区二、一项技术成果只能申请一类专利

  有部分发明人认为一项技术成果一次只能申请一类专利,即只能申请发明专利或只能申请实用新型专利或者只能申请外观设计专利。我国专利法规定的专利类型有三类:发明专利实用新型专利及外观设计专利,一项产品发明可同时申请多种专利,技术方案也可以同时申请实用新型和发明专利

  从近两年的审查情况看,实用新型专利通常4-7个月左右即可授权;发明专利则需1年多。因此,对于一些重要的产品发明,若发明人只申请了发明专利,而此时他人“双管齐下”,同时申请发明专利实用新型专利,那么他将先获得实用新型专利,拥有了产品的专利权。发明人若使用该产品,反而构成了侵权。

  雷区三、产品大规模生产或运营后不再申请专利

  有些权利人或者发明人认为申请了一项或者几项专利后,就能永远获得保护,并且忽视后续研发或者申请工作。即使开发出了新产品或有了新改进,也不再申请专利。这种一劳永逸的思想,会限制专利的延伸和专利保护,特别是,如果他人针对已申请的产品进行了改进,并且获得了专利授权,就会影响原专利价值的发挥,甚至会导致原专利权人变成侵权人。特别是很多行业产品更新换代比较快,如果没有及时跟上专利申请的进程,就会落入这个误区陷阱。

  雷区四、技术一定要转化为实际成果才需要申请专利保护

  很多发明人认为,技术一定要转化为实际成果或者说一定要有实际的产品,甚至是要投入生产的工艺流程,才能申请专利,认为技术方案只是“创意”,是不必申请专利的。这是对专利申请的条件的认识不足造成的。

  实际上,专利只要有切实可行的思路,能够形成设计图纸,或者能够形成技术方案,并且符合专利授权的三要素,就可以进行专利申请。往往等到产品或者工艺思路被公开后,再去申请专利的,即使最后获得授权,侵权方也可以以专利申请之日技术已被公开为由进行抗辩。所以要想尽快获得专利保护,同时占领先机,一定要及时申请专利保护。

  以上就是由伊诺知识产权为大家事理的谨记专利申请的四大雷区,相信大家也对专利申请要注意的事项也有所了解了吧,若您还有什么问题和疑问的话,可以免费在线咨询我们的顾问进行了解。



TAG标签:专利申请,发明专利,实用新型专利
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